伸和商工株式会社

薄膜方法

真空蒸着

高真空中で蒸着材を電子ビームにて加熱し気化・昇華させ基板をセットしたドームを回転させ、気体分子となった蒸着材が基板に付着することで薄膜が均一に形成されるといった成膜技術です。
弊社では単層膜から多層膜まで成膜可能でガラス・金属・樹脂・フィルム等多品種の基板に加工可能です。また金属膜から誘電体膜まで幅広く成膜できます。

スパッタ

高真空中で不活性ガスを導入しターゲットに高電圧をかけグロー放電を発生させます。
ガスが帯電することにより発生したイオンは高速でターゲットに衝突し、ターゲットを構成する成膜材料の粒子を弾き出し、基板の表面に付着・堆積させ薄膜を形成する技術です。

イオンプレーティング

高真空中で蒸着材を電子ビームにて加熱し気化・昇華させる際にプラズマ中を通過させることによりプラスの電荷を帯びさせ、基板にマイナス電荷を印加して気化・昇華した蒸着材を引きつけて堆積させ成膜する工法です。

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